一、低溫拋光工藝
?、俚蜏貟伖獠壑械蜏貟伖鈩舛瓤刂茷榭偹?5—30g/l,最低≥15 g/l;
?、趻伖獠蹨?0-30℃不得低于20℃,拋光時(shí)間90—200s;
?、厶峒軆A斜,滴凈殘液后,迅速放入清水槽中漂洗,經(jīng)兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化,在水槽中停留時(shí)間不應(yīng)大于3分鐘;
?、艿蜏貟伖獠牧显趻伖馇安坏眠M(jìn)行其它方式的處理,也不能將其它槽液帶入拋光槽中。
二、除油工藝
?、僭谑覝厮嵋褐羞M(jìn)行,時(shí)間2—4分鐘,H2SO4濃度140-160 g/l;
?、谔峒軆A斜滴凈殘液后,放入清水槽中清洗1-2分鐘。
三、磨砂(酸蝕)工藝
?、俪秃笤谇逅矍逑丛龠M(jìn)入酸蝕槽;
?、诠に噮?shù):NH4HF4濃度30-35 g/l,溫度35-40℃,PH值2.8-3.2,酸蝕時(shí)間3-5分鐘;
?、鬯嵛g結(jié)束后經(jīng)兩道水洗再進(jìn)入堿蝕槽。
四、鋁氧化的工藝流程:
1、上架;水洗;低溫拋光
2、磨砂料及磨砂電泳料氧化
3、著色料及著色電泳料氧化