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各種因素對氧化膜硬度和生長速度的影響

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鋁和鋁合金表面上能否生成優(yōu)質的硬質氧化膜層,主要取決于電解液的成份濃度,溫度,電流密度,及其原材料的成分。

鋁和鋁合金表面上能否生成優(yōu)質的硬質氧化膜層,主要取決于電解液的成份濃度,溫度,電流密度,及其原材料的成分。

 

電解液的濃度

采用硫酸電解液進行硬質陽極氧化時,一般在10%~30%濃度范圍內(nèi),濃度低時,氧化膜硬度高,特別是純鋁比較明顯,但對含量較高的鋁合金(CY12)例外。因為含銅量較高的鋁合金易生成CuAl2的化合物,這種化合物在氧化時溶解速度較快,極易燒毀鋁零件。所以一般不適合用低濃度的硫酸電解液,必須在高濃度(H2SO4在 300~400g/L)中進行氧化處理或采用交直流電疊加法處理。

 

溫度對膜層的影響

電解液溫度對氧化膜的耐磨性影響極大,一般來說,如果溫度下降,那么鋁和鋁合金的陽極氧化膜耐磨性能就增高,這是由于電解液對于膜的溶解速度下降所造成的,為了獲得較高硬度的氧化膜。我們要掌握溫度在±2℃范圍內(nèi)進行硬質陽極氧化處理為好。

 

鋁合金

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